1、ASML的EUV光刻机我们已经下单等待交货了,是不是到货以后中国就可以生产7nm甚至是5nm的芯片了不要把问题想简单了,以为芯片也只有光刻机和刻蚀机。
1、中微半导体5nm是误导性新闻。某网络媒体未经证实发布了关于 “当所有的巨头还在为10nm、7nm技术大肆进军的时候,中国中微正式宣布掌握5nm技术”的误导性新闻,后经多家媒体转载造成了不实信息的扩散。
2、不需要EUV光刻机,纳米压印技术可以实现5nm芯片。最近的新闻报道称中国芯片制造商成功开发了一项新技术,即NIL纳米压印技术。这项技术被认为能够承担起EUV光刻机的工作,并且具有更低的生产成本。
3、五纳米芯片不需要光刻机是真的。佳能公司宣布通过NIL纳米压印技术,将在2025年实现制造5nm芯片而不需要EUV光刻机的使用。
4、就5nm刻蚀机技术而言,中微确实已经步入世界领先水平,但绝没有像公众号鼓吹的那般“实现弯道超车”。
月15日,一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布。该发明涉及芯片设计及制造。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。
五纳米芯片不需要光刻机是真的。佳能公司宣布通过NIL纳米压印技术,将在2025年实现制造5nm芯片而不需要EUV光刻机的使用。
不用光刻机制造5nm芯片的方法包括采用纳米压印设备、使用中芯国际的N+1代工艺、用碳纳米管来代替硅晶管、用电子束光刻技术、用量子芯片。采用纳米压印设备。
不需要EUV光刻机,纳米压印技术可以实现5nm芯片。最近的新闻报道称中国芯片制造商成功开发了一项新技术,即NIL纳米压印技术。这项技术被认为能够承担起EUV光刻机的工作,并且具有更低的生产成本。
五纳米芯片不需要光刻机的说法并不完全准确。虽然光刻机在制造微电子器件中起着至关重要的作用,但五纳米芯片的制造过程中仍然需要使用光刻机或其他类似的设备。
没有euv光刻机,也造不了3nm,国产芯片可以利用先进封装技术来提升芯片性能和降低成本。没有EUV光刻机,并不意味着中国的芯片企业就无法实现3nm制程。